深城，海灣科技的三號樓，也是EUV項目辦公樓裡的一樓實驗室裡。
徐申學帶着幾個集團高管在海灣科技的衆人陪同下，參觀了這臺EUV光刻機原型機。
EUV光刻機這東西，光看外表也看不出來什麼，就是一個大櫃子……光看這個大櫃子，普通人很難想象這東西的價格得至少一點五億美元甚至更貴。
此時海灣科技的CEO王道林，則是一臉興奮的向徐申學介紹着這臺原型機的基本情況：“我們的這臺原型機在研發的時候，已經歷經了多次的試驗機型的研發，以逐步提升技術水準！”
“如在關鍵技術參數，也就是數值孔徑上，我們一開始只能做到0.25，而而這一水平的數值孔徑下，哪怕是我們採用了波長更短極紫外光，但是最後做出來的分辨率依舊不行，第一代試驗機的分辨率只有三十五納米！”
“後續我們繼續研發，通過多系統的整合，先進材料的進一步應用，把數值孔徑提升到了0.33，也就是國外ASML旗下產品的同等水準。”
“同時我們在其他子系統，尤其是光源系統以及鏡片系統上也獲得了巨大的技術進步，等到第二代試驗機的時候，我們已經把分辨率提升到了二十納米！”
“理論上來說，這個分辨率已經很不錯，已經可以用來生產現在的這些十納米等效工藝，十二納米等效工藝，甚至等效七納米的芯片了！”
“但是性價比太低了，現在的EUV光刻機研發成本投入巨大，同時製造的硬件成本也會非常大，最後售價可能是現有的DUV浸潤式光刻機的兩倍以上，但是EUV光刻機的生產效率目前還無法提升，只維持在每小時一百片的水準，這意味着從商業價值上來說，第二代試驗機依舊沒有實際價值，同時當時的套刻精度也只有二點五納米。”
“而我們目前量產的最先進的HDUV-600B型光刻機，分辨率達到38納米，套刻精度2.5納米，已經可以很充分的滿足10-14納米工藝的芯片生產需求，性價比更高！”
“綜合來看，第二代試驗機因爲性價比問題，並不具備商業化潛力，所以我們在第二代試驗機的基礎上繼續進行改進！”
“從去年開始，我們開始第三代試驗機的深度改進研發，主要是進一步提升分辨率以及套刻精度，此外也進一步提升機臺的工作效率以及穩定性，爲商業化生產做準備。”
“通過大量的技術研發，在仙女山旗下衆多合作企業的配合下，我們先後對光源系統，曝光系統，機臺系統等進行了大幅度的技術升級！”
“最終，我們做出來了這臺第三代的試驗機，同時也是量產型號的原型機：HEUV-300A型！”
“經過大量的技術升級，目前我們的這臺HEUV-300A，分辨率已經達到了十三納米，數值孔徑爲0.33，最重要的是套刻精度提升到了2納米。”
“其中套刻精度的提升是一個巨大的技術進步，這意味着我們可以使用這臺光刻機低成本的生產等效7納米工藝的芯片，甚至生產等效五納米工藝的芯片！”
徐申學搞了這麼多年的半導體，多少對半導體設備以及工藝之間的關係能搞清楚了。
光是一聽這個十四納米工藝的分辨率，他就知道這臺EUV光刻機的巨大價值了。
芯片工藝能做到做好，是和光刻機的分辨率以及套刻精度息息相關的。
芯片工藝的好壞，芯片工廠一般用等效工藝來進行宣傳，智雲的十八納米、十四納米、十二納米、十納米都是屬於等效工藝，臺積電那邊的二十納米、十六納米、十納米工藝也是屬於等效工藝……並不是說芯片的金屬間隔真達到了這個程度。
芯片行業內一般使用多個關鍵數據來判斷芯片工藝的好壞，而其中和光刻機關係最大的就是半金屬間距了。
如智雲半導體的十四納米工藝，其半金屬間距是四十三納米；而今年剛推向市場的等效十納米工藝，其半金屬間距是三十二納米。
正在研發當中，預計明年投產的等效七納米工藝，半金屬間距是二十七。
隔壁的臺積電以及四星，在各工藝節點上也差不多這個水準，有一些偏差，但是不會大。
而到了二十七納米這個半金屬間距，也就是等效七納米工藝這個工藝節點後，DUV浸潤式光刻機受限於分辨率的限制已經到了物理理論極限了，很難再往下繼續搞了，比如等效五納米工藝就很難搞……當然，也不是說不行，如果套刻精度能夠做到兩納米的程度，也能勉強高，但是成本會上天……
智雲半導體以及對面的臺積電，其實都在嘗試用DUV浸潤式光刻機搞等效五納米工藝的芯片……嗯，就是嘗試把芯片的半金屬間距做到大概二十五納米的水準。
別看只是兩納米的半金屬工藝的提升，但是依舊是一道難以誇張的天塹，難得很。
所以別看都在搞，但實際上都對這一技術路線望而止步……用DUV浸潤式光刻機搞等效五納米的芯片，這個太扯淡了，從商業角度來看完全不值得。
所以這兩家芯片先進工藝的競爭對手，在使用DUV浸潤式光刻機制造等效五納米工藝這一技術路線上，都是雷聲大，雨點小……都在指望EUV光刻機呢。
至於四星和英特爾，他們就更慘了，他們連十納米工藝，嗯，也就是大概三十三半金屬工藝節點都還沒有搞出來呢。
等效七納米，遙遙無期……
其中的英特爾是受限於各種情況，技術推進非常不順利，只能在十四納米工藝上修修改改。
而四星那邊，則是之前被智雲半導體挖走了樑鬆教授，沒有頂級人才的協助下他們搞起來先進工藝也很難，現在還在十四納米工藝裡打轉。
同時，這兩家半導體廠商，現在也開始指望用EUV光刻機搞後續的七納米工藝……用DUV浸潤式光刻機玩四重曝光，然後搞等效七納米，太尼瑪難了。
所以，DUV浸潤式光刻機受限於本身的分辨率限制，別說搞等效五納米了，就算是用來做等效七納米工藝，也是千難萬難……也不是搞不了，而是良率太低了，進而導致芯片成本暴漲。
而芯片可是一個非常講究性價比的東西，你性能沒提升多少，但是成本暴漲好幾倍，這是沒有市場價值可言的。
到了等效七納米工藝這個階段，其實就需要EUV光刻機了……因爲它的分辨率更低，哪怕是單次曝光也能夠達到DUV浸潤式光刻機四重曝光的精度……這意味着什麼？
省錢啊！
哪怕EUV光刻機更貴，生產效率更低，但是因爲不需要四重曝光就能生產等效七納米乃至五納米工藝的芯片，因此生產出來的等效七納米，五納米工藝的芯片，其成本依舊低於DUV浸潤式光刻機。
當然，EUV光刻機的潛力更大，後續還能夠生產性能更好的芯片，這也是現在的DUV浸潤式光刻機所無法做到的。
比如等到未來，芯片工藝技術進一步發展，芯片的半金屬間距進一步提升到四十多納米、三十多納米，甚至二十多納米、十多納米的時候……DUV浸潤式光刻機是無論如何都做不到的，這都和工藝沒啥關係，而是物理極限就擺在這裡，不能忽視基本的物理規律啊！
七納米和五納米階段省錢，性價比高。
等效三納米，二納米，一點五納米，一納米階段則是硬需求……沒它就造不了。
上述這兩點，就是徐申學不管如何都要搞EUV光刻機的緣故！
順帶一提，哪怕是現在智雲集團正在秘密研發，即將明年發佈商用型號的超導量子計算機，它內部的核心零部件‘超導量子芯片’也是用光刻機生產的，而且對工藝要求很高，這需要高端光刻機。
倒是國內另外一些機構正在研發的光子量子計算機，雖然也需要光刻機來生產芯片，但是對光刻機的性能要求不算高。
而現在，隨着這臺第三代試驗機的誕生，困擾智雲集團，乃至困擾華夏電子工業的最後一道枷鎖，就被徹底打破了。
所以現在徐申學最關心的問題就是：“這臺原型機看起來已經相當成熟了，什麼時候可以量產商用？”
海灣科技的CEO王道林道：“我們設計這臺原型機的時候，就是奔着量產型號去的，從技術角度來說，我們已經打通了所有的技術環節，隨時可以生產更多的HEUV-300A型的光刻機，但是它畢竟只是一臺原型機，縱然理論可行，但是實際長時間使用會暴露什麼問題，這依舊不明確，我們依舊需要對它進行一定時間的各種測試，找出來潛在的諸多問題。”
”但是下個月開始，我們可以爲智雲微電子開始提供少量的實驗機型，用來進行前期的測試工作！”
“正式量產型號的話，還需要看後續的測試工作是否順利，需要多長時間，而這方面還需要智雲微電子這邊進行配合！”
這個時候，徐申學看向了一旁跟着來視察的智雲微電子的CEO丁成軍：“你們這邊還需要多久才能搞定這些測試工作？”
丁成軍斟酌着了會後道：“我們訂購EUV光刻機的話，必然是用在等效七納米工藝以及未來的等效五納米工藝之上的，目前我們的七納米工藝的技術是建立在DUV浸潤式光刻機之上的，而這一套工藝和EUV光刻機的工藝技術差別會很大！”
“之前我們雖然也獲得了一些國外EUV光刻機的秘密資料，也嘗試進行了理論上的工藝開發準備工作，但是依舊很不完善！”
“當然，單純光刻機測試工作我們有信心在一年內完成，EUV光刻機的七納米工藝有望在兩年左右搞定！”
徐申學心中盤算了一番，這意味着明年冬天左右EUV光刻機的量產型號，就能批量生產交付給智雲微電子，等到後年下半年話應該就能完成EUV光刻機等效七納米工藝的技術認證，大後年初開始大規模投產。
進而取代現在死貴又不好用的DUV浸潤式光刻機的等效七納米工藝。
這個時間表還可以接受。
至少比競爭對手ASML加臺積電要快……
爲什麼？
因爲按照徐申學手底下情報部門的打聽，ASML那邊的EUV光刻機項目一直都談不上多順利……也不是說技術不行，他們的技術來源全球各地，能獲得很不錯的各種子系統。
主要是今天這裡出問題，明天那裡出問題，拖時間……搞起來各種破事太多！
嗯，基本都是銀河安保的功勞！
ASML今年年初才推出了第四代的實驗機型，聽情報部門反饋，他們的第四代實驗機型的分辨率做到了十六納米，但是套刻精度依舊只有兩點五納米，屬於典型的實驗機型，用來進行商業生產就不太划算了。
這種第四代實驗機型夏天的時候，剛交付給了臺積電進行各種測試……銀河安保嘗試過進行阻撓，不過水果和高通、AMD等一大票美國芯片廠商，現在都指望着臺積電的技術能緊跟智雲微電子，甚至超越智雲微電子呢。
因爲現在美國自己已經沒有先進的專業芯片代工廠了……AMD的芯片工廠早就出售，現在也沒落了，使用的還是四星的落後十四納米工藝技術，英特爾現在也困在十四納米工藝，而且英特爾也不對外代工。
所以現在這些歐美的芯片廠商面對智雲集團的來勢洶洶的競爭，爲了保持技術不落後，只能選擇臺積電進行代工……他們沒得選。
而這些美高科技企業背後的財團自然也不會眼睜睜的看着徐申學那王八蛋，又來搞破壞，所以也派出了大規模的安保部隊對這個第四代的試驗機進行全程護航，保護零配件供應，核心工程師的人身安全，爲此雙方的安保人員在這個夏天裡又狠狠的幹了一架。
第一臺第四代試驗機從他們的廠房運往機場的時候……不但秘密運輸，而且對面的財團派出足足一百多名全副武裝的安保人員進行全程保護……就怕不知道哪裡飛來的火箭彈把它給炸了！
可別覺得誇張，銀河安保那羣瘋子真能幹出這種事。
不過銀河安保雖然瘋狂，但沒能擋住這臺光刻機順利被運輸到臺積電……畢竟對面的安保人員也不是吃素的。
外界至今都沒有人知道，圍繞着ASML這臺第四代試驗機，雙方前後死傷了數十人。
主要是這種事不太適合公佈出來，雙方都很默契的採取了暗中交手的方式，爆發武裝衝突的事發地，當地的財團也很自覺的幫忙擦屁股……沒人願意讓普通人看見財團之間相互打仗的場面，影響太惡劣了。
對此不少其他地方的財團其實對徐申學以及老美的財團意見都很大！
你們兩家打仗歸打仗，但是別來我這地盤瞎折騰啊，又是車禍，又是槍擊，還搞火箭筒亂炸，給你們擦屁股很麻煩的好吧……
好說好歹，這臺第四代的試驗機總算是運到了臺積電，開始安裝並進行測試。
而等臺積電那邊做完各種測試，怎麼也得一年時間，然後反饋數據給ASML，ASML根據實驗數據進行改進。
哪怕一切順利的話，最少也要兩年後臺積電才能夠拿到量產型號的光刻機。
而到那個時候，自家的EUV光刻機都已經開始生產芯片了。
徐申學琢磨了一番後，覺得是時候和對面的財團談判了……畢竟自己能幹的事，對面其實也能幹。
最近幾年，仙女山控股旗下的一些企業，也沒少遭到各種破壞，只是智雲集團的安保力量足夠強悍，再加上當地安全機構協助，勉強沒出什麼大事……但是一直這樣也不好受，仙女山控股的首席科學家，研發出來EUV光刻機多項核心材料的王斌耀教授，最近兩年出個門都得帶幾十號人。
現在這個HDUV-300A都出來了……對方知道了後大概率是要忍不住大規模動手了。
這就和徐申學夏天的時候，知道了ASML在己方的各種阻撓下，竟然還折騰出來了第四代試驗機的時候，親自下令進行各種破壞阻撓，因此銀河安保下屬的安保人員如同瘋狗一樣撲向歐洲一樣。
自己都忍不住的要動手，對面大概率也忍不住。
都是世界級的財團，誰也沒比誰更善良！
如今雙方的原型機都已經搞出來了，量產時間也大差不差……這個時候繼續在EUV光刻機領域裡相互糾纏已經沒有什麼實際意義了。
反正徐申學的目標很簡單，EUV光刻機我不能用，你們也不能用。
如果是一起用的話，徐申學其實沒什麼意見……就和現在的DUV浸潤式光刻機一樣，大家都在用，然後就各自憑藉實力玩芯片製造工藝、芯片設計唄。
而芯片製造工藝技術以及芯片設計技術上，智雲集團是有優勢的。
考慮到了這一點，當天晚上回去後，徐申學給太平洋對岸打了個電話，簡單聊了聊。
這種事，徐申學只開了個頭，對面就猜到了徐申學的想法。
一開始還挺嘴硬的說什麼你徐申學發動戰爭容易，但是想要結束戰爭就不是那麼容易事了。
你想打就打，想不打就不打，你當地球是你家的啊，臉這麼大？
但是徐申學又不是什麼善人，說的他煩躁了就直接來了一句：要麼雙方罷戰，要麼戰爭升級……你自己選一個！
然後對面就慫了……升級個屁，現在是手底下的炮灰打仗，死再多我也不在乎，但是你要升級，我可就不奉陪了。
我的命金貴着呢，你以爲誰都像你徐申學爛命一條啊！
所以，對面就說什麼地球人類是一家，打打殺殺的多不好，友好和平纔是人類的未來。
對面一慫，徐申學自然也說了些好話，說什麼合作纔是未來，地球就屁大點的地方，這低頭不見擡頭見的，大家一起做生意就挺好的，沒必要搞衝突嘛！
反正EUV光刻機這東西，你我雙方都搞的差不多了，使絆子除了讓雙方死多點人，也沒啥太大的用處，我攔不住你，你也攔不住我，還不如干脆和解。
然後在商業規則內進行競爭，大家各拼本事掠奪全球市場多好啊，尤其是歐洲那地方，那麼肥，不多吃幾口都心痛啊。
雙方扯了接近半個小時，最後達成了臨時口頭協議，在光刻機領域裡暫時罷戰，然後大家一起用EUV光刻機，同時還達成了另外一個協議，對EUV光刻機爲核心的先進半導體工藝技術要進行管制，別胡亂出口！
這個世界上，不需要第三個能夠擁有先進半導體技術的國家。
對面還特地強調了印度……說那羣阿三一直在謀求獲得先進半導體技術，我這邊已經給拒絕了，你徐申學也別犯糊塗，該封鎖就得封鎖，不然就是個禍害！
雙方在這事上達成了口頭協議後，接下來的事情就簡單了……對EUV光刻機的各種舉動也不用遮遮掩掩，擔心被對手給破壞了。
首先，ASML那邊提前一步舉行了新聞發佈會，宣佈旗下的EUV光刻機技術的若干重大技術突破，其第四代試驗機已經進入測試階段，量產機型有望在兩年內推向市場。
而一週後，仙女山控股旗下的海灣科技也舉辦了新聞發佈會，正式對外公佈了HEUV-300A原型機的信息，並宣城兩年內有望投入量產，衝向芯片製造領域的新高峰！
兩大光刻機巨頭，在間隔一週內同時宣佈EUV光刻機的重大技術進步的消息，這又引來了科技行業的震動。
EUV光刻機，自從2006年ASML搞出來第一臺試驗機開始，業界已經期待了十多年了，但是一直都是各種測試，從來都沒能投入到量產階段，更沒有投入到芯片批量製造領域。
如今，這兩大光刻機巨頭卻是宣佈，兩年內就能看見EUV光刻機投入量產，並製造等效七納米乃至更先進的芯片。
這可是個大消息！
這意味着，芯片的算力依舊可以穩步的繼續提升，而不用擔心在等效七納米工藝之後難以爲繼了。
這對人類整體的技術發展都是有巨大的積極意義的。
尤其是現在移動互聯網在全球範圍內大規模應用，各種智能終端層出不窮，同時人工智能技術開始逐步應用，人類社會已經朝着智能化的時代進步了。
這也就意味着對芯片的需求更高。
圍繞着芯片的一系列技術進步，直接關係到了整個人類社會的技術進步。
如今芯片技術能夠持續進步，也讓很多業內人士鬆了口氣……未來大有可期！
只不過在EUV光刻機領域裡雖然徐申學和對面的財團達成了和解……但是隻侷限於這個領域。
在其他領域裡的競爭依舊劇烈。
同時對面的財團也不是一家，而是很多家，彼此間也有利益衝突，也不是什麼人都願意和徐申學和談的。
尤其是在汽車領域裡，隨着徐申學手底下的海藍汽車發展的越來越好，尤其是向市場推出了三十萬左右的海藍SLMC以及海藍MEV這兩款車型後，在全球都賣的很不錯。
哪怕是在北美市場裡，也賣得很好，甚至都有壓過特斯拉的勢頭。
如此情況下，對面的其中幾家財團也終於是忍不住了……
不過這一次，他們並沒有直接針對海藍汽車這單獨一家企業搞什麼制裁和封鎖，這不適合……畢竟海藍汽車在海外做生意，還是挺規矩的，藉口不太好找。
再加上徐申學這個人脾氣也不算好，你單獨封禁海藍汽車，朝着徐申學臉上啪啪打臉，人家就敢讓美國品牌的汽車直接滾出華夏市場。
所以，他們走了個折衷方案：對所有來自華夏的汽車，關稅直接拉到百分之一百！
意思就是：我不是針對你徐申學啊，也不是針對你手底下的海藍汽車啊……我這是正常的貿易保護啊，這是規則內的商業競爭啊，你徐申學也氣急敗壞直接扔火箭筒，那不符合規矩！