與此同時。
火炬實驗室，地下測試中心。
自從一個月前親眼見證了宏觀負折射透鏡的存在之後，張汝寧研究團隊的工作方向就發生了根本性的變化。
出於最嚴格的保密要求，長光集團本部在表面上一切如常，ArF-1800項目仍在按原有折反式路線推進。
然而實際上，那些厚厚的、凝結了無數心血的設計手冊，已被悄然鎖進了最深的檔案櫃。
張汝寧本人則帶領一批最核心、最可靠的技術骨幹，直接搬到了京城開展工作。
這一次，火炬實驗室非常慷慨地借出了一部分空間，以便與長光項目團隊緊密協作。
之前不讓連海化物所那邊派人過來，就是因爲不想泄露負折射材料的秘密。
而對於張汝寧，自然不存在這方面的顧慮。
畢竟人家本來就是光刻系統的核心設計人員。
不過，協作歸協作。
區區一個月的時間，倒是還不夠兩邊搞出什麼大新聞來——
負折射材料的存在確實簡化了物鏡系統內部的光路分佈，但對於每一組透射/反射元件本身而言，需要關注的部分反而變多了。
而且，Ga-Ge（0001）的製造和成片本來就困難，而透鏡組又不可能只包含平面鏡。
如何把這種新玩意弄成曲面鏡，也耗費了常浩南和慄亞波不少精力。
而此刻，就是檢驗結果的時候。
所有人的目光都聚焦在實驗臺中央。
那裡正擺放着一臺高精度的泰曼-格林型激光干涉儀。
從鏡片支架的預留孔位來看，即將接受檢測的，是一個三透鏡系統。
其中一號位的融石英鏡片和三號位的氟化鋰鋇鏡片都已經被安裝到位。
只剩下二號位置還空着。
它也將是決定這次關鍵實驗成敗的核心。
幾分鐘後，實驗室的氣密門滑開。
慄亞波的身影出現在門口，手上捧着一個透明的隔塵保護盒。
每邁出一步，都是小心翼翼。
“張研究員，基本測試已經完成了。”
他把盒子穩穩放到張汝寧面前。
盒子內部是一塊泛着鉛灰色的凸透鏡片，
被特製夾具固定着。
正是Ga-Ge（0001）製成的二號透鏡。
張汝寧俯下身，仔細觀察了片刻。
“材料製備難度比較大大，所以這塊鏡片的厚度比最初預計小了大概65%。”
慄亞波頓了頓，補充道：
“但我們已經用多種方法反覆測試過它的基本光學性能，確認它滿足系統設計當中的要求。”
其實一般而言，在光學性能保持一致的前提下，鏡片厚度應該是薄一些更好。
只不過這一塊，實在有點太薄了……
以至於連操作都要特別注意。
張汝寧點了點頭：
“理解。”
這絕對不是客套。
能在這個時間點拿到這樣尺寸的樣品，他已經非常滿意了。
說話間，又揮了揮手，示意身後的助手何修軍開工。
後者上前，打開保護盒的專用操作手套接口。
張汝寧親自戴上特製的防護手套，雙手探入盒內。
爲了便於拿取和施加保護，鏡片外面其實還套着一層硬殼。
但即便如此，仍然幾乎沒有什麼實感。
解開夾具。
取出鏡片。
緩緩安放到支架的二號位上。
“咔噠”一聲輕響磁性夾具穩穩吸合。
歸位。
最後，撤掉保護套。
“準備記錄。”張汝寧的聲音沉穩有力，打破了實驗室的寂靜。
“啓動干涉儀，光源波長設定爲486.1nm（F線，氫藍光），作爲基準參考波長。”
何修軍迅速接管控制檯。
激光器發出晶瑩的藍光，通過分束鏡，形成兩束相干光路。
一束穿過三透鏡系統，另一束作爲參考。
干涉儀的光學平臺發出細微的調整聲。
幾秒鐘後，何修軍緊盯着高分辨率顯示屏上實時生成的干涉圖樣，
報告道：
“張工，條紋已調至零位！基準波長下，系統波前像差極小，狀態完美！”
“好。”張汝寧的語氣幾乎沒有波動，“開始掃描！波長從486.1nm（氫藍線F）開始，逐步向短波方向推進。”
“明白！”
何修軍打開早就編寫好的測試程序，讓激光器自行調整輸出博創。
顯示屏上，代表兩束光干涉疊加形成的明暗條紋圖樣，隨着波長變化而微微變化。
所有人的心都提到了嗓子眼。
435.84nm……（汞藍線g）
404.66nm……（汞紫線h）
365.01nm……（汞紫外線i）
波長越來越短，逐漸逼近深紫外（DUV）區域。這是傳統光學材料色散急劇增大、像差最難控制的波段。
然而，屏幕上的干涉條紋，雖然隨着波長的變化出現了些許撥動，但呈現出來的變化幅度卻幾乎是肉眼不可見的水平。
如果使用傳統光學器件，那或許只有蔡司出手，才能做到類似的程度。
而且肯定需要一個巨大且複雜的透鏡系統。
絕非三塊鏡片就能解決。
“太穩了……”一位長光的光學工程師忍不住低聲驚歎。
慄亞波對這個結果早有預估，但真到了親眼所見的時候，還是忍不住掛上了一抹笑容——
如果這個成果順利投入應用，那麼就連自己的院士頭銜，都可以提上議事日程了。
正常情況下，一門雙院士這種事，一般都是老師在哪個院，學生就在哪個院。
但他的老師同時身兼雙院院士。
哎呀，到時候該怎麼選呢？
真是個令人感到痛苦的抉擇呢……
……
就在慄亞波已經忍不住想入非非的時候，何修軍帶着激動的聲音傳來：
“數據出來了！”
他恨不得把頭塞進屏幕裡：
“相比基準波長，系統波前的RMS值（均方根值）上升了……不到0.15！”
實際應用中，DUV光源的寬度很窄，不可能囊括從486.1nm到193nm這麼寬的範圍。
因此這個數值換算到光刻機上面，就已經是非常優秀的結果了。
身後的另一名工程師直接一哆嗦：
“這……這比我們之前任何一套全折射或折反式系統在這個波段的穩定性都要好得多！”
張汝寧緊抿着嘴脣，沒有說話，但緊握的拳頭微微鬆開，肩膀也耷拉下去不少。
不過，還不到可以徹底放鬆的時候。
電腦屏幕上，ArF波長下的干涉條紋依舊清晰可辨。
雖然比長波長時略粗了一些，但整體形態保持良好沒有災難性的崩潰。
“提取澤爾尼克係數，重點分析離焦項Z4！”
張汝寧語速加快。
澤爾尼克係數是量化光學系統像差的標準數學工具。
其中Z4項，就代表了離焦，這正是由色散差導致的核心像差之一。
何修軍熟練地操作軟件，對當前的干涉圖樣進行高速採集和分析。
十幾秒鐘後，結果跳出！
“Z4值是……-0.042λ。”
何修軍的聲音由於興奮而顯得尖銳：
“對比我們之前最成功的消色散方案，這套三透鏡系統在同等焦距下的實測Z4值減少了差不多三分之一……”
減少三分之一，這很重要。
但還不是最重要的。
“而且，”張汝寧補充道，“這套系統的體積，只有傳統消色散組件的不到五分之一！”
更緊湊的體積和更簡單的結構，相當於給物鏡組的其它部分留出了更高的自由度。
顯然，他們成功了。
這不僅僅是數據的勝利。
還是爲突破ASML在光刻技術上的封鎖，打開了一扇充滿希望的窗……
不對。
何止是開窗。
這是把房頂都給掀了……
就在衆人沉浸在初步成功的喜悅中時，氣密門再次滑開。
一名測試人員探進頭來：“慄教授，有電話找，常院士的。”
正在跟另外幾人討論結果的慄亞波一愣，接着匆匆離開。
但僅僅幾分鐘後，又去而復返。
“各位！”慄亞波打斷了討論和慶祝。“常院士讓我立刻通知大家，儘快去頂樓會議室集合！”
張汝寧臉上的笑容瞬間收斂，嚴肅起來：
“慄教授什麼事這麼急？”
他看了看旁邊的設備，還有電腦屏幕上的數據：“實驗方面還有些收尾和重複驗證……是需要所有人都過去麼？”
“老師說，他找到了一種全新的理論方法！”
可能是因爲之前一路跑過來的緣故，慄亞波的呼吸有些急促：
“可以替代現有體系，對偏振像差進行描述和理論解釋。”
此話一出，就連正坐在電腦前分析數據的何修軍都停下了手上的動作，轉過頭來看向慄亞波。
“替代瓊斯矩陣？”
不止一個人脫口而出。
在傳統光學系統的成像過程中，大多是將光看做標量處理，而忽略其矢量特性。
但在投影光刻物鏡中，當數值孔徑NA不斷增大時，光的矢量特性對成像效果影響也會逐漸增大。
尤其對於3G浸沒液和鑥鋁石榴石這樣NA值預計會大於1.70的系統，傳統標量像差理論已經不足以完全表徵光學系統的成像性能。
必須使用偏振像差理論。
然而，偏振相差甚至沒有一種完善的描述形式，穆勒矩陣和瓊斯矩陣各自有無法適用的範圍。
如果能解決這個問題，無疑是補上了超高精度成像領域的一個缺口。
張汝寧瞬間做出決斷：
“先暫停手頭的所有實驗操作，鎖定設備狀態！”
“小何，注意保存好所有數據。”
“所有人，跟我上樓！”